高壓高流量帶旋轉立式氣淬真空爐是用加熱元件在近真空狀態下加熱的工業爐，廣泛應用于熱處理技術領域，爐內加熱元件可以是電阻爐絲(如鎢絲)，也可以是加熱片，在真空爐的爐內固定有一個架子。

　　真空爐的爐體結構，包括爐體，固定環固定在爐體內，固定環內固定有多個環形加熱板，真空爐還包括擱架其特征在于機架包括條形桿、固定桿和套筒桿，兩個固定桿固定在固定環內壁上。

　　套筒一為兩個，分別套在每個固定桿上，一套筒可沿對應的固定桿的軸向滑動，每個套筒的外壁與螺栓一螺紋連接，螺栓一的螺釘沿相應套筒的徑向延伸，并可與相應的固定桿的外壁對接連接。

　　真空爐爐膛內的加熱元件為加熱元件，工件熱處理時，加熱元件首先通電，當加熱元件變紅時，工件可以被加熱，擱架的橫桿用于放置工件，工件可以用鋼絲等固定在擱架上，條桿的兩端分別與套筒桿的頂部固接，套筒桿沿相應固定桿的軸線滑動。